研究了退火温度为５５０℃的纳米晶化过程中加热速度对Ｆｅ７２．７Ｃｕ１Ｎｂ２Ｖ１．８Ｓｉ１３．５Ｂ９与Ｆｅ７３．５Ｃｕ１Ｎｂ３Ｓｉ１３．５Ｂ９合金磁性的影响．磁性测量结果表明，退火加热速度对这两种合金软磁性能有明显的影响......

本文是“氮化硼片源扩散下的硅表面机构”一文的续篇,描述用扫描电子显微镜、椭偏光仪等方法对氮化硼片源扩散下的硅表面Si-B相所......

20世纪90年代,作为硅基光电子学的一个主导发展方向,硅基低维发光材料的研究取得了一系列重要进展。一方面,硅基超晶格、量子阱以......

Thermal expansion hehaviors of some precursor-derived amorphous Si-C-N and Si-B-C-N ceramics,which were shaped by plast......